RF Havaitsemisteknologia

EI-INVASIIVINEN, KIINNITETTÄVÄ RF-ILMAISIN TARJOAA NOPEAA KAARENTUNNISTUSTA iPVD:SSÄ, PECVD:SSÄ JA EROTTAMISESSA Wafer-hävikkiä vähentäen ja tuottavuutta parantaen Kaari-ilmiöt plasma-prosessoinnin aikana voivat aiheuttaa vaurioita kohteelle ja kammiolle, mikä johtaa substraatin vaurioitumiseen ja hiukkasten syntymiseen. Kun ominaisuuksien koot pienenevät, mikroelektroniset laitteet tulevat yhä alttiimmiksi kaari-induced vaurioille. Kaari-ilmiöitä voi esiintyä missä tahansa plasma-avusteisessa prosessissa, kuten ionisoidussa fyysisessä höyrystämisessä (iPVD), plasma-vahvistetussa kemiallisessa höyrystämisessä (PECVD) ja erottamisessa. INFICON Sion Arc Detector tarjoaa ratkaisevan ensimmäisen puolustuslinjan. Sion mahdollistaa mikro-kaarten nopean havaitsemisen ja niihin reagoimisen ennen merkittävää vauriota tai jätettä. Järjestelmä tarjoaa reaaliaikaista havaitsemista ja analyysiä plasma-mikro-kaari-ilmiöistä.