Plasma-pintakäsittelyjärjestelmä | Nano - Alhaisen paineen plasmajärjestelmä, Plasma-pintakäsittelyjärjestelmä, Plasma-puhdistin

Diener electronicin plasma-asemat ovat jo vakiinnuttaneet paikkansa eri teollisuudenaloilla. Alhaisen paineen plasma-asemalla Nano panostat moderniin ja tulevaisuuden kestävämpään kylmän plasman teknologiaan tyhjiössä. Tämän plasmasysteemin kammiotilavuus, joka on 18–24 litraa, tarjoaa riittävästi tilaa laboratorio- ja sarjatuotannon tarpeisiin. Alhaisen paineen plasman käsittely on todistettu tekniikka hallittuun hienopuhdistukseen, tartunnan parantamiseen (aktivoiminen ja etsaaminen) sekä ohuiden kerrosten pinnoittamiseen substraattipinnoille. Plasmaa tuotetaan käyttämällä korkeataajuista jännitettä tyhjökammiosta. Tällöin sinne syötettävä prosessikaasu ionisoituu. Käyttökohteet: - VOC-vapaa puhdistus orgaanisista jäämistä - Aktivointi ennen maalausta, liimausta, valamista, … - PTFE:n, fotomaalin, oksidikerrosten etsaaminen, … - Super-hydrofobiset ja -hydrofiiliset pinnoitteet Mitat (pöytälaitteet): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (BxHxT) Mitat (pystylaitteet): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (BxHxT) Tyhjökammion materiaali: Ruostumaton teräs, alumiini, kvartsilasi (UHP), borosilikaattilasi (HP) Tyhjökammion mitat: noin B 240 mm x H 240 mm x T 400 - 420 mm; Ø 267 mm, T 400 - 420 mm Tyhjökammion tilavuus: noin 18 - 24 litraa Tyhjökammion sulku: kansi, ovi saranoilla Kaasuvirtaus: Neulaventtiilit tai massavirtaohjaimet (MFC) Generaattori: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Paineen mittaus: Pirani, kapasitiivinen manometri Elektrodit: asiakkaan toiveiden mukaan Ohjaus: Puoliautomaattinen, kytkin, perus-PC (Win. CE), täys-PC (Win. 10 IoT) Jännite: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Tyhjöpumppu: Imuteho min. 16 m³/h