Korona purkaus syntyy pään sisällä kahden elektrodin välillä ja johdetaan ilmavirran avulla pinnalle.
Olipa kyseessä yksittäinen pää hoitoleveyksille 20-60 mm tai useita päitä vierekkäin skaalautumista varten - tälle vakiintuneelle teknologialle voidaan kehittää ratkaisu moniin käyttötarkoituksiin. Tämän teknologian innovaatio on moduloitu, korkeataajuinen sähköjännite. Generaattori syöttää enintään 2 suuttimelle.
Myös täällä voidaan käyttää erilaisia prosessikaasuja, kuten esimerkiksi typpeä.
Teho: noin 400 W per pää
Kanavat: max. 2
Lämpötila: noin 40° C
Prosessikaasu: Ilma, typpi
Potentiaalivapaa: ei
Muuntaja: sisäinen
EDC teknologia: ei
NDC2 teknologia: ei
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastakaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmän av...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tällä menetelmä...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksi...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiheänä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksit...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisellä suutt...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastakaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmän av...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tällä menetelmä...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksi...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiheänä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksit...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisellä suutt...