Plasma MEF 7-140 - MEF Teknologia
Plasma MEF 7-140 - MEF Teknologia

Plasma MEF 7-140 - MEF Teknologia

Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiheänä säteenä pinnalle paineilman avulla. Olipa kyseessä yksittäinen suutin tarkkaan esikäsittelyyn, moninkertaiset suutimet laajemmille sovelluksille tai useita plasmamoduuleja laajoille substraateille - tämä teknologia voi vastata jokaisen asiakkaan tarpeisiin. Erityisten funktionaalisten ryhmien luomiseksi polymeeripinnalle voidaan käyttää erilaisia prosessikaasuja. Teho: 200 W per suutin Kanavat: 1-2 Prosessikaasu: Ilma, Happi, Argon, Typpi Potentiaalivapaa: lähes Muuntaja: sisäinen & ulkoinen EDC-teknologia: integroitu NDC2-teknologia: integroitavissa
Samankaltaisia tuotteita
1/12
Plasma MEF 7-56 - MEF Teknologia
Plasma MEF 7-56 - MEF Teknologia
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla. Yksittäisillä suutt...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF 7-28V - MEF Teknologia
Plasma MEF 7-28V - MEF Teknologia
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla. Yksittäisillä suutt...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF 1-Kanava - MEF Teknologia
Plasma MEF 1-Kanava - MEF Teknologia
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla. Olipa kyseessä yksi...
DE-21436 Marschacht
Plasma T-SPOT 1-Kanava - T-SPOT Teknologia
Plasma T-SPOT 1-Kanava - T-SPOT Teknologia
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä. Suuttimen geometria...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF 2-Kanava - MEF Teknologia
Plasma MEF 2-Kanava - MEF Teknologia
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla. Yksittäisillä suutt...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF EDC:llä - MEF Teknologia
Plasma MEF EDC:llä - MEF Teknologia
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla. Yksittäisellä suutt...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT 1-Kanava - CAT Teknologia
Plasma CAT 1-Kanava - CAT Teknologia
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tällä menetelmä...
DE-21436 Marschacht
Plasma T-SPOT 2-Kanava - T-SPOT Teknologia
Plasma T-SPOT 2-Kanava - T-SPOT Teknologia
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä. Suuttimen geometria...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT 2-Kanava - CAT Teknologia
Plasma CAT 2-Kanava - CAT Teknologia
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastakaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmän av...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT Compact 1-Kanava - CAT Teknologia
Plasma CAT Compact 1-Kanava - CAT Teknologia
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT Kompakti 2-Kanava - CAT Teknologia
Plasma CAT Kompakti 2-Kanava - CAT Teknologia
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
DE-21436 Marschacht
Corona T-JET 2-Kanava - T-JET Teknologia
Corona T-JET 2-Kanava - T-JET Teknologia
Korona purkaus syntyy pään sisällä kahden elektrodin välillä ja johdetaan ilmavirran avulla pinnalle. Olipa kyseessä yksittäinen pää hoitoleveyksille ...
DE-21436 Marschacht

europages-sovellus on täällä!

Käytä parannettua palveluntarjoajahakua tai lähetä tarjouspyyntöjä uudella europages-sovelluksella.

Lataa App Storesta

App StoreGoogle Play