Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmän avulla kulumisen vaikutus plasman muodostumiseen minimoidaan.
Olipa kyseessä yksittäinen suutin käsittelyleveyksille 20 - 40 mm per pää tai useita suuttimia vierekkäin laajemmille sovelluksille - tälle energiatehokkaalle esikäsittelylle voidaan luoda ratkaisu tällä tehokkaalla teknologiolla. Yksi generaattori voi toimittaa virtaa enintään kahdelle suuttimelle.
Myös tässä voidaan erityisiä funktionaalisia ryhmiä tuoda polymeeripinnan kautta eri prosessikaasujen avulla.
Teho: 600 W tai 1000 W per suutin
Kanavat: 1-2
Prosessikaasu: Ilma, Happi, Argon, Typpi
Potentiaalivapaa: lähes
Muuntaja: ulkoinen
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastakaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmän av...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tällä menetelmä...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksi...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiheänä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksit...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Korona purkaus syntyy pään sisällä kahden elektrodin välillä ja johdetaan ilmavirran avulla pinnalle.
Olipa kyseessä yksittäinen pää hoitoleveyksille ...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisellä suutt...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastakaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmän av...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tällä menetelmä...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksi...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiheänä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksit...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Korona purkaus syntyy pään sisällä kahden elektrodin välillä ja johdetaan ilmavirran avulla pinnalle.
Olipa kyseessä yksittäinen pää hoitoleveyksille ...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisellä suutt...