Vuodesta 1993 Tigres GmbH on ollut yksi johtavista Atmosphärendruck-Plasmaanlagen valmistajista. Maailmanlaajuisesti eri toimialoilla järjestelmäratkaisuamme, joilla pinnat aktivoidaan, puhdistetaan ja pinnoitetaan, on integroitu. Monet materiaalit, joita käytetään autoteollisuudessa, ilmailu- ja avaruusteollisuudessa, sähköteollisuudessa, lääketieteessä, kodinkoneissa, paino- ja tekstiiliteollisuudessa sekä pakkausteollisuudessa, muokataan ennen jatkokäsittelyä laitteillamme. Tiimimme koostuu korkeasti koulutetuista ja käytännön kokemuksen omaavista työntekijöistä, joilla on laaja asiantuntemus monilla liiketoiminta-alueilla. Jokaisella työntekijällä on korkea toimialakohtainen osaaminen omalla erikoisalallaan, johon koko tiimi voi tarvittaessa tukeutua.
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tällä menetelmä...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastakaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmän av...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisellä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiheänä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksit...
T-SPOTin purku tapahtuu klassisella rakenteella keskeisesti sijoitetun elektrodin ja vastielektrodina toimivan suuttimen välillä.
Suuttimen geometria...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Olipa kyseessä yksi...
Korona purkaus syntyy pään sisällä kahden elektrodin välillä ja johdetaan ilmavirran avulla pinnalle.
Olipa kyseessä yksittäinen pää hoitoleveyksille ...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...
Potentiaalivapaa plasma tuotetaan CAT-teknologiassa kahden valokaaren avulla, jolloin vastavalokaari toimii samalla vastuselektrodina. Tämän menetelmä...
Plasma tuotetaan MEF-teknologiassa sähköisesti estetyllä purkauksella ja puhalletaan tiiviinä säteenä pinnalle paineilman avulla.
Yksittäisillä suutt...